4-材料分析表征技术-总体知识体系框架图-粗

自制的《材料分析技术》课程知识体系框图。感觉还是比较详细的。足够一般本科院校的本科生学习、备考研究生用。

材料分析技术

• 第零章：材料结构
  • 正空间
    • 七大晶系
    • 14Bravias格子
    • 晶格参数及其相互关系
  • 倒空间
    • 倒易基矢定义
    • 倒易矢量性质
      • 正交晶系
      • 立方晶系
  • 对称性
    • 点群（32）
    • 空间群（270）
      • SG符号解释
• 第一章 X射线物理学基础
  • X射线的物理本质
    • 电磁波
      • 波长：0.01-10nm
      • 能量
    • 最显著的特征：能够进入物质内部或透过
    • 折射率≈0.999999
  • X射线的产生
    • 主要设备： X光管
      • 构造
        • 阴极：灯丝
        • 阳极：靶材
        • 窗口
        • 焦点：1x10
          • 物相分析
          • 透视或探伤
        • 其他
          • 高压
          • 低压
          • 冷却
      • 参数
        • 管电压: V
        • 管电流: i
        • 靶材:T
    • 其他方式:
      • 同步辐射
        • 特征
      • 宇宙射线
      • 旋转阳极靶
    • 设备中的位置
  • X射线谱
    • 连续谱
      • 特征
      • 短波限
      • 形成机制
        • 经典解释
        • 量子解释
    • 特征谱
      • 特征
      • 形成机制
        • 量子解释
  • X射线与物质的相互作用
    • 散射
      • 非相干散射
      • 相干散射
        • 物相分析主要信息源
    • 吸收
      • 慢散射
      • 真吸收
        • 光电效应
        • 吸收限
          • 利用
            • 滤波片
          • 防止
            • 选X光管
    • 透射
      • 线吸收系数
        • 质量吸收系数
        • 三次方规律
  • X射线的防护
    • XRD设备的操作防护
      • 日常操作注意事项
        • 警示灯
        • 换样品
    • 防护意识
• 第二章 X射线衍射方向
  • Laue方程
  • 布拉格方程
    • 代数形式
    • 衍射矢量方程
    • Ewald球图法
      • Ewald球+倒易点阵
• 第三章 X射线衍射强度
  • 种类
    • 运动学理论
    • 动力学理论
  • 信息源：相干散射
  • 物理学理论基础
    • 理论基本假设
      • 相干光干涉加强，形成稳定衍射花样
    • 实验条件
      • 入射光
        • 单色
        • 平行
        • 相干
        • 非偏振
        • 出射光SAME
      • 样品基本假设
        • 光栅样品
        • 从晶面的角度进行描述结构
          • 理论最后归结
        • 无限大（μm以上）
        • 无缺陷
        • 原子静止：0K
        • 所有偏差，后期修正
    • 衍射理论相位计算近似
      • 条件：r⋘R
      • 计算公式：
      • 多电子系统
  • 计算scheme
    • 电子
      • 偏振因子
        • 意义:散射强度空间分布不均匀性
    • 原子
      • 原子散射因子
        • 意义: 电荷密度分布的F.T.
    • 晶胞
      • 结构因子
        • 太重要！
    • 小晶体
      • 干涉函数（形状因子）
        • 意义:取最大值处满足Bragg Law
    • 多晶体
      • 多重性因子（P）
      • 参与衍射晶粒数目
      • 单位弧长
      • 温度（T）
      • 吸收（A）
      • • 角因子
• 第四章 多晶体分析方法
  • 多晶体分析方法概述
    • 样品状态
      • 晶粒足够小，相邻晶粒取向差较大
    • 分析模型
      • 一个小晶粒4pi立体角均匀旋转
        • 正空间模型
        • 倒空间模型
      • Eward球分析方法最简洁
  • 实验方法
    • 依据 ：
    • 种类
      • 劳厄法
      • 周转晶体法
      • 粉末法
        • 德拜法
        • 粉末衍射仪
      • 实验条件
    • 典型实验方法
      • 粉末照相法
        • 德拜相机
          • 德拜花样
          • 制样与实验
          • 衍射花样指标化
      • X射线衍射仪
        • 设备构造
          • 光源
          • 测角仪
          • X射线探测器
          • 主控计算机
          • 其他设备
            • 高压
            • 水箱
            • 其他
        • 设备原理
        • 样品制备
          • 课程实践能力
          • 基本要求：理想不完整晶体近似
          • 粉末样品
            • 研磨
            • 各项异性-织构
          • 金属样品
            • 切割
            • 退火
          • 其他
        • 基本实验技能
          • 基本参数
          • 工作模式
            • 连续扫描
            • 步进扫描
        • 衍射花样
          • 特征
          • 数据分析
            • 扣背底
            • 峰位确定
            • 峰强确定
            • XRD数据指标化
              • 基本能力
      • 其他多晶照相法
        • 同步辐射小角度散射
        • 其他
      • 点阵参数的精确测量
        • 理论依据
        • 误差来源与分析
        • 常用方法
          • 最小二乘法
          • 图解外推法
• 第五章 物相分析
  • 课程实践能力
  • 前提
    • 制备样品
    • 完成XRD实验
    • XRD实验数据
      • 其他方法
      • 粉末法
  • 基本假定
    • 相（结构）与衍射花样一一对应
    • XRD谱强度的机械叠加
      • 多相谱的分离
  • 物相分析
    • 定性相分析
      • 数据预处理
        • 标准结构信息队（d-I列表）
      • 单相定性相分析步骤
        • 分析框图与软件使用
      • 多相定性相分析步骤
      • 注意事项与工作难度
    • 定量相分析
      • 点阵参数的精确确定
  • 数据库与软件
    • JADE
    • Xpert Highscope
• 第六章 电子光学基础
  • 电子
    • 波粒二象性
    • 波长↓↓↓
    • 相对论效应
  • 电磁场对电子的作用
    • 静电透镜
      • 电子枪
    • 磁透镜
      • 主要电磁透镜
    • 电子在E/B中的运动模型
  • 电磁透镜
    • 像差
      • 球差
      • 像散
      • 色差
      • 原因
    • 景深
    • 焦深
• 第七章 透射电子显微镜
  • 概述
  • TEM构造
    • 立式结构
    • 原理（Abbe）
    • 设备实现
      • 电子光学系统
        • 照明光源
          • 电子枪
          • 聚光镜
        • 成像系统
          • 样品室
            • 顶插台
            • 侧插台
          • 物镜系统
            • 物镜
            • 物镜光阑
            • 选区光阑
          • 中间镜系统
          • 投影镜系统
        • 图像记录及显示系统
      • 真空系统
      • 高压电源及其他电源
      • 计算机控制系统
      • 其它系统附属系统
  • 样品制备
    • 基本原则
      • 足够薄
      • 体结构不变
      • 原因
    • 常用设备
      • 化学减薄仪
      • 离子薄化仪
    • 基本步骤
      • 大块样品的切割
      • 预先减薄
      • 最终减薄
      • 参数
    • 注意事项
  • TEM基本操作
    • BF
    • DF
  • 电子衍射花样（EDP）
    • EDP种类
    • 电子衍射规律
      • 布拉格定律
    • EDP标定
      • 尝试-校核法
      • 标准衍射图法
      • ……etc
    • 复杂EDP
  • TEM显微像
    • 种类
      • 质量厚度衬度像
      • 衍射衬度
        • 运动学理论
          • 理想晶体衬度
            • 衍射衬度基本公式
            • 种类
              • 无衬度
              • 等厚条纹
              • 等倾条纹
              • 区分？
          • 晶体缺陷衬度
            • 层错
            • 位错
            • 第二相粒子
        • 动力学理论
          • 消光距离
            • 动力学效应
        • 常见TEM衍射衬度像解释
      • 相位衬度
        • HRTEM
  • 基本实验操作
    • 明场像（BF）
    • 暗场像（DF）
    • 选区电子衍射（SAED）
      • 步骤
      • 注意事项实验技巧
  • TEM应用
• 第八章 扫描电子显微镜
  • 概述
  • 高能电子束与物质相互作用
    • AE
    • SE
    • BSE
    • X
    • 主要信息
    • others
  • SEM构造
    • 照明系统
      • 电子枪
      • 聚光镜
    • 电子光学系统
      • 物镜系统
      • 扫描线圈
      • 样品室
      • 信息采集探头
      • SEM特色
    • 真空及电源
    • 其他附属系统
  • SEM原理
    • SE像
    • BSE像
  • SEM样品制备
    • 制备要求
    • 常用方法
  • SEM基本实验操作
    • 基本工作模式
    • 注意事项
  • SEM主要附件
    • EDS
    • WDS
  • 应用
• 第九章 电子探针
  • 信息源
    • 特征X射线
      • 如何产生?
  • 相关设备
    • EDS
      • 特征
      • 工作模式
        • 点扫描
        • 线扫描
        • 面扫描
      • 设备基本构造
    • WDS
      • 特征
      • 工作模式
      • 设备基本构造
• 课程实验
  • XRD
  • SEM
  • 必做、演示
  • 光谱实验
  • 热分析实验
  • 选做
  • TEM
  • 综合探索
  • 课程实践能力
• 浮动主题
• "三位一体"
  • 主要原因
    • λx↓↓↓↓↓
    • 光栅结构
  • 相干散射
    • 干涉加强条件
      • 反射定律
      • 任意相邻{hkl}