经营计划

此篇导图与经营计划有关，其内容主要有月度MP，年度MP，生产达成以及MF1+6，这看似是总结但我们可从中学到经营应该要有月度总结，年度总结等

经营计划

• 年度BP
  • 产品组合
    • 总产能趋势变化
    • 特殊工艺趋势变化
  • 产能静态模型
    • 瓶颈计划
    • 投资计划
      • 新产能
      • 技改项目
  • 公司战略方向
• MF1+6
  • 产品组合分析
    • 总产能趋势变化
    • 特殊工艺趋势变化
      • 新工艺
        • SGT
          • SGT G2/G4
          • SGT G3
        • PT
          • FRD
          • SGT PT
          • 其它
      • A客户
      • 新项目管理
        • 消费级
        • 工控级
        • 车规级
  • 产能静态模型
    • Top 10 机台组与loading
• 生产达成 (落实MP)
  • 产能规划与打通
    • 趋势工艺与产能规划
      • fre少（<3） 没有单机
        • N+1
      • Fre >=3
        • 各别group N+1
        • 整体 N+2
    • 特殊限制产能规划
      • N+1
    • 产能会议涵盖
  • coming WIP管理
    • 瓶颈机台管理
      • 在线WIP
      • WS in 1/3/7天
        • product/Q'ty
    • 特殊限制管理
      • 在线WIP
      • WS in 1/3/7天
        • product/Q'ty
    • 安排计划性项目
  • 每日生产安排
    • 日目标设定
      • 机台产能扣除计划性安排
        • PM调整
        • 借机调整
        • 测机调整
    • 24小时派工
      • 达成率
        • 派工达成率
        • 机台绩效达成率
      • 结合派工系统
        • 派工至Lot
        • 估算WPH
    • 每日生产会议
  • OEE改善
    • 双周/月度会议
    • 改善效果
• 月度MP
  • 产品组合
    • 总产能趋势变化
    • 特殊工艺趋势变化
  • 产能静态模型
    • 瓶颈机组与管理
    • 新增产能计划与进度
      • 69K项目

Target Setting

• Monthly target
  • Capacity 计划性
    • Uptime
      • PM
      • EQ Test （Monitor）
      • EQ Lent
      • other安排
        • rework
        • CDW
    • Efficiency
      • PWPH
        • 历史数据 WPH 扣除标准？
          • PWPH base IE
• Daily target
  • Supply Capacity
    • 计划性
      • PM
      • EQ Test（Monitor）
      • EQ Lent
    • 非计划性 （EQ Down 08:00已知)
      • 早会前 产生 计划性产能能力与派工分配
      • 预估当天交回生产时间 视同当日计划
        • 早会后 修正 产能能力与派工分配
    • Remain capacity after exclude 计划性
      • 列入当日performance (EE or Dispatching)
  • dispatching Demand Lot
    • Current Wip
      • main flow/B Flow
      • /rework
    • Coming Wip
      • Q'time loop
        • main flow/B Flow
      • Cycle time in 24 小时
        • main flow/B Flow
        • rework
  • Dispatching PC
    • target setting to Lot (by lot priority)
      • Q'time loop 有风险overq'time
        • 起始点 已经Running(计算）
        • 起始点 已经booking（计算）
          • 可以调整 由组长及以上干预
        • Q'time loop（计算）
      • 非Q'time loop
        • follow priority
          • system&priority（PC）
      • Balance capacity to meet target
        • (PC&Offline&Module) balance remaing capacity
    • followup rate
      • 列入当日 performance (in-lineTA)
• Priority
  • Priority 机制
  • 整体Priority占比 分布
    • Turn Ratio 监控
      • Move/平均Wip
  • Priority by tech
    • Turn Ratio 监控
      • Move/平均Wip
• 改善点
• 改善点

Pho 监控

• Stage 小于 Tool
  • Rework rate 超标否
    • By wafer
    • By Lot
  • 量测机台 WIP/时间
    • Sample lot 启动及时
    • Rework lot 太多或超时
• Stage 大于 Tool
  • Tool达标
  • tool 未达标
• Tool Move
  • PS6
    • up time
    • diapatching
  • PSIC
    • up-time
    • dispatching
  • PSIN
    • up-time
    • dispatching
  • PSB
    • support PT 时间
• Stage Move
  • POL WIP
    • sample rule
      • WIP 标准 800/1400 ？
      • 时间 标准?
  • PCD WIP
    • sample rule
  • PMS WIP
    • WIP 标准
    • Hold Lot
      • 其它异常 同质性大于3批
        • 询问PE原因
      • wait to merge 特别安排
        • （12小时）
        • 24小时（abnormal）

8B Pho

• mask & tool capability
  • 5X mask
    • PSI*14台
      • Off-line
        • PSIC*6台
      • in-line
        • PSIN*8台
          • PSIN G1*6 (I12)
          • PSIN G2*2 (I14)
      • 追加WEE 能力
    • PS6*4台
      • PSUC02/03
        • not full capability
      • PSUC05
        • partial PS6 or partial PSI
      • PSUC01
        • partial PSI
      • PS6 产能模型与产能利用
  • 4X mask
    • PSI
      • PSIN G3*1（+1）(SF130)
    • PS6
      • PSUC*0（+1）(206)
    • 新增产能
• 5X Constrain 在off-line
  • Off-line 数量 产能冲突
    • Align issue & tool
      • 1st layer
        • 只能在PSIC *3 吗？
          • PSIN*机会评估（中长期））
      • SJ B*/R*
        • PSIC01/02、21/22 能否？
      • SJ GC/XN/CT/M1/TV
        • 只能在 PSIC 吗？
      • M1 Pho
        • DUV backup I-Line
          • DUV光罩进度
            • 月均小于1500片，集中安排投片
            • 月均大于3000片，CT/M1 Pho 领先型安排
          • PSUC01 release 200/D+...
            • 工艺问题解决（AR 每日）
          • PSUC05(/02/03)依据01 release数量
            • S206产能贡献后重点
          • 5X DUV backup i-line
            • 产能计算 1:1 ？？？
            • 能力差2台汰换计划
      • 其它
        • DUV backup I-Line
          • TR Pho (G1)
            • 进度？
      • TV Pho
        • SBD/TVS 200/D
          • 评估可行性
      • PM Pho
        • Run card (offline to inline)
        • PR pipe
    • WEE
      • PSIN*技改进度
        • PSIN?@?/?
        • PSIN?@?/?
      • off-line 弹性与时间
        • PTIT08(@?/?)
        • PTIT10(@?/?)
  • 新工艺runcard 建立Off-Line
    • SGT G3
      • GC 改In-Line @6-15
      • 没改完不投片或不派工
    • FRD
      • 大于500转PSIN*?
      • 没改完不投片
    • Day1 就建立
• 4X/5X弹性建议
  • Top 20产品 （优先）
    • 新出光罩
  • 有WEE优先准备

Y2022产能布局

• 69K投资
  • SF130
  • S206
  • 4X产能比重增加
    • DUV backup 增加1500/日
• 产品结构调整
  • +SJ
  • +FRD
  • -LV
    • 可以安排减少了
• PSIC13 Down
  • offline 产能 恶化了

Pho产能模型拆解

• Runcard对应机台组
  • PSI
    • 1st layer
    • TR/CT
      • PSI 部分 DUV backup I-Line
        • 信息再确认
          • SGT G1
            • weekly update
    • SJ B*
      • DUV backup I-Line??
        • 信息再确认
    • SJ R*
    • M1 layer
      • DUV backup I-Line
      • 信息再确认
        • Defect改善
          • weekly update
    • TV layer
    • PM Layer
    • 非Imp(GC/IP/TP)
      • WEE 如何区分（依据Tech/Layer)
    • Imp（GR/PW/XN/XP/NB/PB)
      • 问题点3：一般工艺少1~2 层
      • DUV backup I-Line
  • PS6
    • DUV1
    • DUV2
      • Tech/线宽
• 机台能力
  • PSI
    • PSIC
      • 6台
    • PSIN G1
      • I12 * 6
        • 问题点2 ：机台能力限制
    • PSIN G2
      • I14 * 2
        • （+WEE）？
    • PS6
      • DUV backup i-line
        • 问题点1 ： 机台能力限制
    • PSIN G3
      • SF130
  • PS6
    • PSUC02
      • PSUC02/03
    • PSUC01
      • PSUC01/05
    • S206

中心主题

• AR汇总
  • 4X/5X mask preparation
    • 4X(PS6 & PSI)
      • 光罩准备与 HUF 投片
        • 阶段1 SF130*1
          • 产能1500/日
          • 光罩准备2000+
            • HUF 5250+（1500/20*70)
              • 约当产出1500,生产周期70天（20layer）
            • 其它光罩 少量(top20)
        • 阶段2 SF130*2
          • 产能3000/日
          • 光罩准备4000+
            • HUF 12250（3500/20*70）
              • 约当产出3500,生产周期70天（20layer）
            • 其它光罩 少量(top20)
        • 阶段3 SF130*2+S206
          • 产能4500/日
          • 光罩准备6000+
            • HUF 12250（3500/20*70）
              • 约当产出3500,生产周期70天(20layer
            • 其它光罩 结合S206计划
      • 光罩准备与 S206 分配
        • 产能1500?/日
        • 光罩准备分阶段
          • 阶段1
            • PS6 must 数量
            • backup I-Line哪些layer
              • SJ前段？以及imp layer
              • HUF哪些layer?
          • 阶段2
            • PS6 建议
            • backup I-Line哪些layer
              • SJ前段？以及imp layer
              • HUF哪些layer?
    • 5X PS6 backup PSI
      • 5X
        • M1 Pho（all）
          • PSUC01 M1 Pho进度（每天））
            • 数量
            • Defect 情况
          • 光罩与run card 进度（pellicle 更换为DUV）
            • 每周
        • TR Pho (SGT G1)
          • PSUC02/03/05 release 时间
  • WEE 机台
    • PSIN*技改进度
      • PSIN?@?/?
      • PSIN?@?/?
  • 新工艺布局
    • PSI run card in-line/offline
      • 源头管理
        • TD/PIE/Pho/PC
    • PFBS 管理
  • MF1+6 准确度/及时性
    • 新工艺 大于年度计划要预告准备
    • 大船转弯需要时间

中心主题