导图社区 电子技术半导体器件
下列思维导图整理了PN结、二极管的特性和一些参数,供大家学习参考。
编辑于2020-10-09 19:56:51半导体器件
半导体的导电特性
导体
自然界中很容易导电的物质称为导体,金属一般都是导体
绝缘体
有的物质几乎不导电,称为绝缘体。如陶瓷、石英
半导体
导电特性处于导体和绝缘体之间,称为半导体,如锗、硅、砷化镓和一些硫化物、氧化物等
热敏特性、光敏特性
当受外界热和光的作用时,它的导电能力明显变化
掺杂特性
往纯净的半导体中掺入某些杂质,会使它的导电能力明显改变
本征半导体
完全纯净的、结构完整的半导体晶体
硅(Si)和锗(Ge)最外层电子(价电子)都是四个。通过一定的工艺过程,可以将半导体制成晶体。
在硅和锗晶体中,每个原子都处在正四面体的中心,而相邻四个原子位于四面体的顶点,每个原子与其相邻的原子之间形成共价键,共用一对价电子。
束缚电子
共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中
常温下束缚电子很难脱离共价键成为自由电子
本征半导体中的自由电子很少,导电能力很弱
导电机理
自由电子、空穴成对出现
在绝对0度(T=0K)和没有外界激发时,价电子完全被共价键束缚,本征半导体中没有可以自由运动的带电粒子(即载流子),相当于绝缘体。
在常温下,由于热激发,使一些价电子获得足够的能量而脱离共价键的束缚,成为自由电子,同时共价键上留下一个空位,称为空穴。
外加电场时
自由电子做定向运动所形成的电子电流。
自由电子:在晶格中运动
被原子核束缚的价电子按一定方向依次填补空穴形成的空穴电流。
空穴:在共价键中运动
本征半导体的导电能力取决于载流子的浓度
复合
自由电子在运动过程中如果和空穴相遇就会填补空穴,使两者同时消失
在一定的温度下自由电子和空穴的产生和复合达到动态平衡,半导体中的载流子维持一定的数目
但是这时的载流子数量很少,导电能力差
温度越高,热运动加剧,自由电子和空穴增多,载流子的浓度越高,本征半导体的导电能力越强
PN结及其单向导电性
形成原理
N型半导体(negative)
在硅或锗晶体中掺入少量五价元素磷(或锑),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质取代,整个晶体的结构基本不变
载流子
五价元素提供的电子,五价元素成为正离子,浓度与五价元素原子相同
多数载流子
本征半导体产生的空穴
少数载流子
P型半导体(positive)
在硅或锗晶体中掺入少量三价元素硼(或铟),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质取代,整个晶体的结构基本不变
载流子
三价元素提供的空穴,三价元素接受电子成为带电负离子,浓度与掺杂浓度相关
多数载流子
本征半导体产生的自由电子
少数载流子
多子扩散运动:加宽空间电荷区 少子漂移运动:空间电荷区变薄 空间电荷区形成内电场,稳定后厚度不变,形成PN结 P 内电场 ← N
空间电荷区中几乎没有载流子
空间电荷区中P区中的空穴、N区中的自由电子(都是多子)形成的电流比较大
P区中的自由电子和N区中的空穴(都是少子),数量有限,形成电流很小
单向导电性
正向电压、正向偏置
P区加正电压、N区加负电压
内电场被削弱,多子扩散加强,能够形成较大的正向电流
空间电荷区变薄
加正向电压时,PN结处于导通状态,呈低电阻,正向电流较大
反向电压、反向偏置
P区加负电压、N区加正电压
内电场被加强,多子扩散受到抑制,少子漂移加强,但因少子数量有限,只能形成较小的反向电流
空间电荷区变厚
加反向电压时,PN结处于截止状态,呈高电阻,反向电流很小
二极管
基本结构
PN结加上管壳和引线
伏安特性
外加电压大于死区电压,二极管才能导通
外加电压大于反向击穿电压时,二极管被击穿,失去单向导电性
死区电压
硅管~0.5V
锗管~0.1V
导通压降
硅0.6~0.8V
锗0.2~0.3V
大小和材料及环境温度有关
最大整流电流
二极管长时间使用时,允许流过二极管的最大正向平均电流。超出,PN结过热会损坏管子
反向工作峰值电压
保证二极管不被击穿而给出的反向峰值电压,一般是反向击穿电压UBR的1/2或2/3
反向峰值电流
指二极管加反向峰值工作电压时的反向电流
反向电流越大,说明二极管的单向导电性越差。反向电流受温度影响,温度越高反向电流越大
理想二极管
正向导通:管压降
硅0.7V
锗0.2V
最理想 0V
反向截止:相当于断开
电路分析
断开二极管
分析其两端电位高低
正向导通、反向截止
压差大的二极管优先导通
稳压二极管
伏安特性 非线性
特性
稳压管反向击穿以后,电流变化很大,但其两端电压变化很小
工作电压
稳压管反向击穿是可逆的,当去掉反向电压后,恢复正常
反向电流超过允许范围时,稳压二极管会发生过热击穿而损坏
使用时要加限流电阻,稳压二极管在电路中可以起到稳压作用
常见参数
稳定电压
稳压管正常工作(反向击穿)时管子两端的电压
电压温度系数
稳压值受温度变化影响的系数,环境温度每变化1℃引起稳压值变化的百分数
动态电阻
愈小,曲线愈陡,稳压性能愈好
稳定电流
最大稳定电流
最大允许耗散功率
晶体管 (三极管)
分类
硅管主要是平面型
锗管都是合金型
NPN型三极管
发射区 掺杂浓度最高
发射区在基区复合的电子,形成电流
发射结正偏,发射区电子不断向基区扩散,形成发射极电流
基区 最薄,掺杂浓度最低
电子在基区扩散和复合
基区空穴向发射区的扩散可忽略
使绝大多数电子扩散到集电结
集电区 面积最大
集电区收集从发射区扩散过来的电子
集电结反偏,由少子形成的反向电流,受温度影响比较大
从发射区扩散到基区到达集电区边缘的电子被拉入集电区形成
放大状态
NPN型 电流分配与放大原理
放大的外部条件:发射结正偏、集电结反偏
Ub>Un
Uc>Ub
正偏:P+N-
晶体管的电流放大作用
基极电流的微小变化能够引起集电极电流较大的变化。
放大实质
用一个微小电流的变化去控制一个较大电流的变化,晶体管是电流控制器件。
PNP型三极管
PNP型晶体管 放大区:发射结正偏、集电结反偏
特性曲线
输入特性曲线
输出特性曲线
线性放大区
发射结正偏 集电结反偏
饱和区
IB的变化对Ic的影响小,
发射结正偏,集电结正偏
深度饱和时
发射极和集电极之间如同开关接通,电阻很小
截止区
发射结反偏,集电结反偏
发射极和集电极之间如同开关断开,电阻很大
主要参数
直流放大倍数
交流放大倍数
集-基极反向截止电流
少数载流子的漂移运动所形成的电流,受温度的影响大
集-射极反向截止电流(穿透电流)
集电结反偏、发射结正偏
三极管温度特性较差
基极开路,集电结处于反偏和发射结处于正偏时的集电极电流,又因为它好像是从集电极直接穿透晶体管而到达发射极的,所以又称穿透电流。
集电极最大允许电流
集-射极反向击穿电压
基极开路时,加在集-射极之间的最大允许电压,称为集-射极反向击穿电压。一般是室温。温度上升时,其值将降低
集电极最大允许功耗
光电器件
发光二极管
加上正向电压并有足够大的正向电流时,能发出一定波长范围的光
光电二极管
工作在反向电压作用下
无光照时,和普通二极管一样,其反向电流很小,称为暗电流
有光照时,产生的反向电流称光电流
照度E越强,光电流也越大
光电流很小,一般只有几十微安,应用时必须放大
光电晶体管
用入射光照度 E 的强弱来控制集电极电流
无光照时,集电极电流很小,称为暗电流
有光照时,集电极电流称为光电流
一般约为零点几毫安到几毫安
输出特性曲线