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半导体产业链的思维导图,整理了上游、中游、IDM模式的内容,感兴趣一起来看看哦。
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半导体产业链
上游
ic设计 (知识密集型行业,需要经验丰富的尖端人才)
例如,华为海思
硅片制造 (硅片加工设备主要由日本、德国和美国厂商提供,国内仅有晶盛机电等少数厂家推出了部分硅片加工设备,市场占有率较低)
拉单晶
设备:单晶炉:目前全球的单晶生长炉主要由美国Kayex、德国PVATePla、日本Ferrotec等企业供应,国内的单晶生长炉企业主要包括晶盛机电、南京晶能、连城数控
磨外圆
东京精密,冈本机械,晶盛机电
切片
东京精密,瑞士HCT,中电科45所,晶盛机电
倒角
磨削或研磨
CMP(抛光)
东京精密,华海清科,晶盛机电
测量机:日本Advantest,美国MTI,韩国Fortix,中科飞测,长川科技
清洗机:日本DNS,盛美半导体,北方华创
中游
三大核心 (这三大核心领域的设备成为推动28nm及以下先进工艺(先进制程)发展的主要力量) (根据IHSMarkit统计,28nm制程的集成电路晶圆代工市场将保持稳定增长,预计2024年全球市场规模将达到98亿美元。 14nm及以下更先进制程的集成电路晶圆代工市场将保持快速增长,预计2024年全球市场规模将达386亿美元。)
薄膜沉淀
化学气相沉积(CVD)57%
CVD领域,AMAT、LAM、TEL三家约占全球市场份额的70%以上
国产CVD设备生产商主要有北方华创和沈阳拓荆
物理气相沉积(PVD)29%
应用材料(AMAT)独占鳌头,约占全球PVD市场份额的80%以上
原子气相沉积(ALD)14%
光刻
光刻机 (价值量占晶圆制造设备中的30%)
高端:由荷兰阿斯麦(ASML)公司垄断,ASML是全球最大的光刻机生产商,是全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商
中低端:日本的Canon和Nikon,上海微电子装备有限公司,(华卓精科和国科精密从事光刻机零部件的研发和生产)
刻蚀
刻蚀机
泛林半导体(LamResearch)独占52%,东京电子(TEL)20%和应用材料(AMAT)19%
国内:国内的刻蚀设备企业主要有中微公司、北方华创、屹唐半导体和中电科
主题
IDM模式
全产业链自己做 (即由一个厂商独立完成芯片设计、制造和封装三大环节)
例如:英特尔、三星和德州仪器是全球最具代表性的IDM企业