掩膜提取

掩膜提取方法及实际应用案例，在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”）

掩膜提取及实践案例

• 定义
  • 物理角度
    • 在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”）
    • 作用
      • 在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
  • 图像掩膜
    • 用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。
• 掩膜的用法
  • 提取感兴趣区
    • 用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0；
  • 屏蔽作用
    • 用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计；
  • 结构特征提取
    • 用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩膜相似的结构特征
  • 特殊形状图像的制作
• 常用案例
  • ARCGIS运用
    • arcgis工具中自带“按掩膜提取”功能，通过现有的区域范围和整张光栅图像，进行掩膜提取，将整张光栅图像按区域范围提取出来
  • PS运用
    • 使用“魔棒”工具选中需要的区域后，选中所需剪裁的图片，使用ctrl+j进行复制，便可快捷剪裁，实现掩膜提取