导图社区 刘恩科半导体物理第四章-半导体的导电性
刘恩科半导体物理第四章-半导体的导电性思维导图
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半导体的导电性
欧姆定律:宏观描述
电流密度
载流子的运动
漂移运动:电子在电场力作用下的运动
迁移率
漂移速度 v
杂质浓度
温度
电导率
载流子散射:热运动
电离杂质的散射
双曲线轨迹
电离杂质浓度越高,散射机会越多
温度越高,越不易被杂质散射
晶格振动的散射:只与长波声子作用
声波散射:弹性散射
长波:10E-8 m(几十个原子间距)
长波中的纵波起主要作用,引起禁带宽度变化及附加势场
温度越高,散射概率越高
光波散射:非弹性散射
主要体现在离子晶体
长纵光学波,光学声子
正负离子的位移产生附加势场
低温时作用很小;温度升高,概率迅速增加
其他散射
等同能谷间散射
长声学波散射:弹性散射
长光学波散射:非弹性散射
低温时谷间散射很小
中性杂质的散射
未电离中性杂质的散射
低温起作用
重掺杂半导体
位错散射:位错附加势场
合金散射: 化合物半导体
载流子运动参数
迁移率:电子迁移率大于空穴迁移率
高纯样品:晶格散射为主,温度升高,迁移率迅速减小
杂质样品
低温时以杂质散射为主,温度升高,迁移率缓慢增加
温度升高:以晶格散射为主,温度升高,迁移率下降
少子和多子迁移率:以硅为例
低杂质浓度:电子作为多子和少子迁移率相同为1330;空穴为495
杂质浓度增加,电子和空穴的少子和多子迁移率均下降
给定杂质浓度下,少子迁移率大于多子迁移率
比如n型硅中杂质能带使得电子的漂移运动减慢,空穴影响不大,所以空穴迁移率大于电子迁移率
相同浓度下少子与多子迁移率差别随杂质浓度增加而增大
载流子浓度
电阻率
轻掺杂
杂质浓度越高,电阻率越小
重掺杂
偏离直线
电阻率-杂质浓度曲线用于测量杂质浓度
低温:本征激发忽略,杂质电离为主,温度升高,电阻率下降
室温:杂质全部电离,晶格散射为主,温度升高,电阻率增加
高温:本征激发为主,温度升高,电阻率急剧下降
平均自由时间
散射概率
倒数关系
概要