化学-UVH2O2氧化技术

紫外耦合双氧水高级氧化技术去除污染物影响因素，包含污染物浓度、H202浓度、UV强度、UV波长等。

UV/H2O2氧化技术

UV强度

影响HO生成速率的关键因素

H2O2浓度

抛物线，先增后降，有最佳浓度

污染物浓度

越低越好，去除越干净

pH

酸性中性＞碱性

干扰物：无机阴离子/有机质

干扰物越少越好，会与HO发生电子转移

降解速度取决于HO的生成速率

生成越快越好，减少猝灭

UV波长

越低越好 长波（320-400nm） 中波（280-320nm） 短波（200-280nm） 紫外波（100-200nm）